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半導體超純水設備

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半導體超純水設備

  • 所屬分類:摩爾工程水處理設備

  • 點擊次數:
  • 發布日期:2019/07/08
  • 在線詢價
詳細介紹

圖片4.png

一、技術要求

產水壓力:0.4MPa

產水水質:按ASTM D5127-2013 E-1.1級的水質標準

                           產水水質標準

序號

名  稱

單  位

數據

備注

1

電阻率(25℃

MΩ.CM

182


2

TOC

μg/L

2


3

溶解氧

μg/L

10


4

蒸發殘渣

μg/L

0.5


5

在線顆粒/升(微米)




6

0.050.1

1000

在線監測

7

0.10.2

350

在線監測

8

0.20.5

100

在線監測

9

0.51.0

50

在線監測

10

1.0

20

在線監測

11

SEM顆粒檢測/升(微米)




12

0.10.2

700


13

0.20.5

400


14

0.51.0

50


15

10

30


16

細菌/100mL




17

100mL取樣

3


18

總矽

μg/L

3


19

溶解矽

μg/L

1


 

運行要求:年連續運轉8000小時

管閥材質:采用進口PVDF超純型管道閥門,熱熔對焊。

 

二、產品先進性分析

 

設備回收率:EDI裝置回收率≥90%EDI濃水全部回流至廠區除鹽水係統原水箱。

設備控製:采用PLC+上位機全自動運行方式,同時可手動運行,係統帶自檢功能,聲光報警。係統運行參數可存儲,可打印。正常運行為自動,檢修為手動,可實現無人值守。係統運行實況可於在線流程模擬屏上實時顯示,如水箱液位的具體高度,增壓泵出口壓力,產水流量,EDI產水電阻率,產水流量,拋光混床產水電阻率、產水流量以及終端產水電阻率、在線監測微粒數等參數。

供水方式:超純水係統供水采用不間斷循環供水方式,回路設計背壓閥保持循環量。

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